The Effect of RF Power and Sputtering Background Pressure on Structural Properties of a:Si
2nd International Congress on Semiconductor Materials and Devices (ICSMD2018), Ardahan, Türkiye, 28 Ağustos 2018 - 30 Ocak 2019, ss.57, (Tam Metin Bildiri)
- Yayın Türü: Bildiri / Tam Metin Bildiri
- Basıldığı Şehir: Ardahan
- Basıldığı Ülke: Türkiye
- Sayfa Sayıları: ss.57
- Erciyes Üniversitesi Adresli: Evet