Highly specific placement of Au Nanoparticles on chemical brush patterns prepared by combination of top-down and block copolymer lithography

ÖNSES M. S. , Liu C., Thode C. J. , Ji S., Nealey P. F.

American Physical Society March Meeting, Dallas, Amerika Birleşik Devletleri, 21 - 25 Mart 2011, cilt.1, ss.43005

  • Cilt numarası: 1
  • Basıldığı Şehir: Dallas
  • Basıldığı Ülke: Amerika Birleşik Devletleri
  • Sayfa Sayıları: ss.43005